Uma unidade da AKRIBIS One

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Notas e publicações

  • Nota de aplicação

    KOH etch of silicon

    Wet etching is used to chemically remove layers (metal, silicon, photoresist) from the surface of a wafer during manufacturing. Etchants that erode…

  • Nota de aplicação

    Peroxide blending and dispense at CMP

    Chemical mechanical planarization (CMP) is the process of smoothing and polishing the wafer’s surface. This is done with the aid of an oxidizing…

  • Nota de aplicação

    Semiconductor wet chemicals

    Vaisala Polaris™ PR53S Semicon Process Refractometer is designed for real-time concentration monitoring of wet chemicals used in the silicon wafer…

Segmento

Uma unidade de um ecossistema

Cada unidade da AKRIBIS One atende uma parte do ciclo da medição; juntas o cobrem de ponta a ponta.

Uma consulta sobre a sua medição

Um especialista responde com a solução, o instrumento e o serviço adequados.

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